RIE模块为广泛的工艺提供各向异性干法蚀刻。
PlasmaPro 100 RIE模块为广泛的工艺提供各向异性干法蚀刻。
PlasmaPro 80反应离子蚀刻(RIE)是一种紧凑、占地面积小的系统,提供多种蚀刻和沉积解决方案,并具有方便的开放式加载。这是很容易的网站和容易…
PlasmaPro 800在紧凑的占地面积、开放式加载系统中,为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻(RIE)工艺提供了灵活的解决方案。大…