ICPCVD工艺模块设计为在低生长温度下生产高质量的薄膜,通过高密度远程等离子体使能具有低基板损坏的卓越薄膜质量。
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PlasmApro 80是一个紧凑的小型占地面积,提供多功能蚀刻和沉积解决方案,方便开放。易于现场,易于使用,没有妥协......