Quantifoil 200目镍R1/4um dia -多洞的碳膜(10包)

Quantifoils^®由半导体光刻技术,15 - 20 nm厚的多孔碳膜与精确,定义良好的孔大小、形状和数组。Quantifoil支持电影提供高百分比的开放区域除了最小化总试样厚度。对象引起的扭曲与支持的交互电影也减少了。它们特别适合低温应用,断层和低剂量显微镜(之)。万博电脑网页版登录

Quantifoil类型:R1/4


的特点QUANTIFOIL®

的QUANTIFOIL多洞的碳膜厚约10到12海里。由于残差从生产过程的整体厚度支持箔是约20海里。以防这些残差产生负面影响你的结果我们建议洗网格与氯仿、ethylacetat和丙酮或等离子体在使用前清洗。他们可以更亲水使用标准的辉光放电和等离子体系统。